Information科技網站早先指出,一些客戶表示,輝達最先進的Blackwell晶片有過熱問題。但研究機構SemiAnalysis首席分析師帕特爾(Dylan Patel)表示,Blackwell與過熱有關的設計問題,已經解決。
帕特爾說:「過熱問題出現好幾個月,大致已經解決」。今年夏天就有晶片過熱的傳言,帕特爾8月在X平台寫道:「我們追查後發現,傳言太誇大」。
Semianalysis在8月報告中指出,問題出在冷卻系統,好幾家供應商做出調整,五名分析師在報告中表示,變動「很小」。
近來的憂慮聚焦GB200 NVL72超級晶片,72代表內有72個Blackwell圖形處理器(GPU)、以及36個中央處理器(CPU)。這麼多晶片放在一起,當作一個超級晶片使用,會變得很燙,需要液冷。
帕特爾指出,初期會有一些問題,大家還不知道怎麼做最好。過渡期間可能相當棘手。
新資料中心將為液冷系統打造,但許多既有設施須改造,這個任務相當艱難,除了所有零組件必須徹底密合,避免液體外漏,液冷並須在特定溫度下循環。需求高漲下,液冷業者Vertiv 19日股價改寫空前收盤高。
帕特爾說,Blackwell先前的晶片設計問題、及安裝挑戰,削減今年晶片出貨量。Semianalysis估計,今年將出貨20萬組,大多給超大規模資料中心(Hyperscalers),較小型的雲端運算業者,預料要2025年春天才會拿到晶片,但部分公司仍不確定到貨數量和時間。
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標題:輝達Blackwell過熱問題 專家稱「傳言誇大」:數月前已解決
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