統懋半導體新市廠汙染土壤地下水 環境部公告解除列管

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統懋半導體新市廠土壤及地下水含氯有機汙染物、氟鹽超過管制標準，2018年被公告為汙染整治場址，台南市環保局今宣布，新市廠已在去年6月完成汙染改善且經驗證合格，環境部今天公告解除列管。

台南市環保局表示，為釐清工業區地下水汙染整治責任，2016年辦理新市工業區土壤及地下水汙染調查，發現土壤及地下水受有機溶劑汙染，依規定於2018年3月28日公告為土壤及地下水汙染控制場址。歷經相關調查及應變必要措施，環境部環管署同年8月15日公告為土壤及地下水汙染整治場址，並處汙染行為人統懋半導體股份有限公司15萬元罰鍰。

環保局長許仁澤表示，除要求該公司提出整治計畫進行改善，整治期間定期邀集專家學者召開會議，督促行為人改善及預防2次汙染。該公司為顯企業責任，原核定5年改善期程，在環保局嚴格監督下，提早2年完成汙染改善工作，花費整治費用2千6百萬元，

環保局去年10月進場驗證，土壤及地下水汙染物濃度已低於管制標準，且經環保署同意解除土壤及地下水汙染整治場址列管，完成土地活化面積約2萬平方公尺。

市長黃偉哲表示，工業區的存在可帶動區域經濟的發展、增加就業機會，但密集的產業聚落使得汙染潛勢增加；除政府機關主動調查與積極監督外，工業區也應辦理土壤及地下水品質監測，建立預警機制，確保工業土地永續利用，共同維護環境品質與民眾健康。

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